Il plasma RF ha incluso la deposizione a Film sottile e il silicio amorfo Etch a Si:H applicazione forno PECVD direttamente dalla fabbrica Xinyu

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Nanyang Xinyu New Material Technology Co., Ltd. 15 yrs

CN

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Il plasma RF ha incluso la deposizione a Film sottile e il silicio amorfo Etch a Si:H applicazione forno PECVD direttamente dalla fabbrica Xinyu

Attributi chiave

Specifica di base del settore

Garanzia

Un anno di

Altri attributi

Punto d'origine

Henan, China

Classificazione

Laboratorio di impianti di riscaldamento

Supporto personalizzato

OEM, ODM, OBM

Marca

XINKYO

Numero del Modello

XY-1200PECVD

Nome del prodotto

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition forno

Tipo

1200C PECVD tubo forno

Max. Temperatura

1200 ℃

Temperatura di funzionamento

<= 1100 ℃

Materiale del tubo

Di elevata Purezza Tubo di Quarzo

Tensione

AC 220V 50/60Hz

Max vuoto

10-3pa

Di controllo della temperatura

30 segmenti Programmabile di Controllo

Tubo diamter

40mm,60mm,80 millimetri, 100 millimetri o come vostri requisiti

Gas sistema di

Tre o quattro canali di gas, ossigeno, azoto, argon agire.

Imballaggio e consegna

Pacchetto

Carta di plastica all'interno, Polyfoam riempito, scatola di Legno al di fuori.

Orificio

Shanghai or any Port of China

Capacità di fornitura

Capacità di fornitura

200 Insieme/insiemi per Month

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Tempi di consegna

Descrizioni dei prodotti da parte del fornitore

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