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Lab 3-target plasma magnetron sputtering coater viene utilizzato per la preparazione di film sottili ferroconduttivi.

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Zhengzhou Saiji New Material Technology Co., Ltd. 3 yrs CN
Lab 3-target plasma magnetron sputtering coater viene utilizzato per la preparazione di film sottili ferroconduttivi.
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Attributi chiave

Specifica di base del settore

Rivestimento
Galvanizzazione
Tensione
110V/220V
Potere (HP)
2KW

Altri attributi

Tipo
Linea di produzione di rivestimento
Garanzia
3 anni
Peso (KG)
169
Substrato
Elevata Purezza Quarzo/Acciaio Inox
Video in uscita-ispezione
Fornito
Macchine Rapporto di Prova
Fornito
Componenti di base
Motore, Cuscinetto, Motore, Recipiente a pressione, Gear, Pompa
Punto d'origine
Henan, China
Marca
SCK
Dimensione (L*W*H)
Il Formato su misura
Chiave di Punti di Vendita
Multifunzionale
Tipo di macchina
Rivestimento Attrezzature
Nome del prodotto
Laboratorio di alto vuoto magnetron sputtering macchina di rivestimento
Materiale cavità
In acciaio inox
Di alimentazione
RF/DC (opzionale)
Magnetron Sputtering Testa
2"
Numero di obiettivi magnetico
3 pezzi
Supporto del campione formato
Dia 140 millimetri
Precisione
± 1

Imballaggio e consegna

Pacchetto
Standard export packaging
Orificio
ZHENGZHOU,ALL PORT IN CHINA

Capacità di fornitura

Capacità di fornitura
7999 Insieme/insiemi per Month
Mostra di più

Tempi di consegna

Descrizioni dei prodotti da parte del fornitore

1 - 9 insiemi
36.388,55 €
>= 10 insiemi
29.806,34 €

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