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Il sistema di incisione
ICP
(sistema di incisione al Plasma accoppiato induttivamente) utilizza la tecnologia al plasma accoppiato induttivamente per un'incisione precisa
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5L laboratorio acqua per laboratorio scuola laboratorio Ultra pura acqua distillata macchina acqua deionizzata
1.838,08-3.326,05 €
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Sistema di incisione al Plasma utilizzato nella produzione di semiconduttori MEMS nanotecnologia e optoelettronica per incisione precisa
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Il sistema di incisione ionica reattiva combina l'accelerazione del plasma e degli ioni per l'incisione a struttura fine
48.626,45-63.214,39 €
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Etcher al Plasma adatto per occasioni di produzione su larga scala che forniscono un effetto di incisione relativamente uniforme
48.626,45-63.214,39 €
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Macchina per incisione al Plasma rimuove materiale dalla superficie in gas attivati dal plasma per incisione precisa
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Etcher al Plasma adatto per occasioni di produzione su larga scala che forniscono un effetto di incisione relativamente uniforme
48.626,45-63.214,39 €
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5-15L acqua per laboratorio scuola di laboratorio Ultra pura acqua distillata macchina acqua deionizzata
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